中国论文霸榜全球顶级半导体会议,收录数量是美国1.7倍,但有一点不足
据日本经济新闻报道,在近期召开的半导体集成电路的顶级国际会议“ISSCC 2025”上,来自中国的论文占到所有收录论文数量的近40%,达92篇,约为排名第二的美国的1.7倍。
据了解,ISSCC是“IEEE International Solid-State Circuits Conference”的缩写,是世界学术界和企业界公认的集成电路设计领域最高级别会议,被认为是集成电路设计领域的“世界奥林匹克大会”。

此次会议期间,投稿论文数为914篇,为史上最高。但收录论文数量仅为246篇,收录率约为27%,未达过去的平均收录率(30%)。其中,来自中国的收录论文有92篇,约占总数的37%;美国、韩国分列第二和第三位,收录论文数量分别为55篇和44篇。
分机构来看,我国北京大学和我国澳门大学被收录的论文最多,均为15篇。排在第3位的是清华大学,共有13篇,我国大学垄断了收录论文数量的前3名。
模拟芯片领域论文占优 数字芯片领域仍需努力
虽然在此次ISSCC上,中国半导体论文收录数量全球第一,是美国1.7倍,但依旧有一点不足,即:我国论文只在模拟芯片(处理模拟信号的芯片,主要包括电源管理芯片、射频芯片等)领域占优,但在需要先进制程的数字芯片(CPU、GPU、存储芯片等都属于数字芯片)领域,依旧有很长的路要走。
日本信州大学的宫地教授表示,中国在“无需依赖最先进的制程技术,而是以电路设计创意取胜的领域”表现突出。在电源电路、RF(无线射频)电路等模拟电路相关领域,中国研究人员发表的论文占据多数,在相关学术会议的多个专题中占据主导地位。
另一方面,在处理器、DRAM、NAND型闪存等需要最先进制程技术的领域,中国的影响力相对较弱。例如,在存储半导体领域,没有一篇来自中国的关于DRAM和NAND的论文被收录。这背后的原因之一是美国主导的对华出口管制政策,包括EUV(极紫外)光刻机对中国的出口禁令。
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